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CST クリーンサアフェイス技術株式会社

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1977
4月
クリーンサアフェイス技術株式会社を資本金2400万円で設立
 
9月
寒川町倉見に第一工場
 
11月
同上に本社を移転。マスクブランクスの製造販売を開始
1978
2月
ビデオカメラ撮像管CF用プレートの製造販売を開始
 
11月
倉見第二工場を竣工し月産2万枚体制を確立
1982
2月
江刺中核工業団地(岩手県)に工業用地(5000坪)を取得
 
8月
ドライ・ウェット両用マスクブランクスT-67を開発し、製造販売開始
1983
11月
岩手県江刺市に江刺第一工場を竣工
1984
1月
江刺第一工場で生産・出荷を開始
 
8月
神奈川県高座郡寒川町大曲に工場用地を取得
1985
4月
ハンドリング治具の製造販売を開始
1988
11月
神奈川県高座郡寒川町に本社工場を竣工
1989
2月
小型スパッター装置を開発し、蒸着からスパッター膜に切り替える
1990
10月
大型マスクブランクスの製造販売を開始
1992
9月
低反射BMブランクスの製造販売を開始
1993
11月
ロックウェルインターナショナル社と超低反射BMの共同開発契約を締結
1994
6月
超低反射BMの開発を完了し、製造販売を開始
 
11月
江刺第二工場を竣工、低反射BMブランクスの本格生産を開始
1996
4月
液晶用大型石英マスクブランクス620×720の製造販売を開始
1997
10月
江刺第三工場を竣工し、大型石英マスクブランクス700×800の出荷開始
1999
12月
大型基板用ハンドリング治具の製造販売開始
2000
12月
本社工場マスク棟を竣工し、PDP用大型マスクブランクスの生産ライン稼働
2002
5月
ハーフトーン膜生産開始
 
7月
PDP用マスクブランクス本格出荷始まる
2003
3月
江刺マスク棟を竣工し、1350×2100サイズに対応
 
8月
ISO9001認証取得
2004
5月
優良申告法人の表彰を受ける
2005
7月
本社東棟竣工、液晶G8に対応し製造販売を開始
2006
1月
ハーフトーン膜本格生産
2008
8月
江刺・本館竣工、液晶G10に対応し製造販売を開始
 
12月
PDP用マスクブランクス2100×2500の製造販売を開始
2011
10月
高精細対応マスクZF11の開発を完了し、製造販売を開始
2014
4月
ポラリス・キャピタルグループの経営体制に移行
2017
2月
三井松島産業株式会社(東証1部、福証)の子会社に移行





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