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CST クリーンサアフェイス技術株式会社

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半導体マスクブランクスの専門メーカーとして創立したCSTは、ユーザーのご指導も得て研磨・洗浄・成膜等の独自の技術を確立してまいりました。これらの技術を基盤に1992年には低反射BMブランクスGLを開発・販売し、1994年には航空計器用に超低反射BMブランクスの開発にも成功しました。低反射BMブランクスは江刺第二工場の稼動・量産により、業界で認知されました。当初はカーナビ、ビデオそしてデジカメといった野外のものから、近年では全てのパネルが低反射化されました。その年、BMブランクスの売上は全体の50%を超えるCSTの主力製品となりました。

1996年には液晶用大型マスクブランクス(620x720x8t)をユーザーのご要求に応えライン化致しました。それ以来、年ごとにサイズは大きくなり、1mを超えるマスクが出現するに至りました。さらに2005年には世界で初めて第8世代(G8)用マスクブランクス(1220x1400x13t)の製品化に成功し、現在では本社東館で量産体制が確立し、世界のマスクメーカーに向けて日々供給しております。CSTは半導体マスクブランクスで培ってきた技術を駆使して、大型マスクブランクスの品質向上に努力しております。

PDP用マスクブランクスについても2001年に製品化した1200x1550サイズにより初めて多面取りへの道を拓き、現在では更に大型化に成功しており、1300x2100サイズの量産を行っております。最近では、液晶・PDPを合わせたFPD向けの大型マスクブランクスの売上げ比率が増加傾向にあります。

また、FPD以外の中型マスクもパッケージ用途の増加に伴い順調に推移しており、半導体用の小型マスクブランクスも安定した量で推移しております。1985年から販売したハンドリング治具も最近ではPDP用、G8基板用の大型ハンドリング治具をラインナップに加え、ユーザーに標準治具としてお使いいただいております。これらハンドリング治具はCST内の工程上の必要から生まれた独自の基板取扱い治具です。

基板ケースは、中型マスク用の塩ビ/バレックスケース、PDP用のアルミ製ケースに加え、G8基板用にHIPS(High Impact Polystylene)製ケースを新たに開発しました。これは、制電HIPSシートを真空成型により加工したもので他社製に比べて1/2~1/4とコンパクト化を実現しています。その他の薄膜製品や洗浄を含めた成膜品の開発依頼や開発協力も可能な限り取り組ませていただいております。

CSTは今後も半導体及びFPD産業を主体に技術の創造・革新に努め、皆様のご期待に沿うよう全社員一丸となって努力してまいります。





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